TOP セミナー 書籍 社内研修 セミナーQ&A 書籍Q&A お問い合せ 会社概要

ご購入またはご試読は、画面下の「書籍購入」あるいは「書籍試読申込」ボタンから

光ファイバの最新応用技術
通信・計測・加工
[コードNo.02NTS039]

■体裁/ B5判 上製 208頁
■発行/ 2001年 8月 31日
(株)エヌ・ティー・エス
■定価/ 19,224円(税込価格)

電線総合技術センター主催「光ファイバの原理とその応用」セミナー(2001年3月)を編集。
通信だけにとどまらない、光ファイバの様々な応用技術を解説。材料研究、国家プロジェクトにも言及した。

執筆者一覧(執筆順)
長谷川 宏(はせがわ ひろし)
 昭和54年3月、九州大学大学院修士課程修了。同年4月、住友電気工業株式会社入社。
 電子線照射架橋電線・成型品、コネクタ、接着剤、ガス分離膜の研究開発・製造・販売に
従事。平成12年8月より社団法人電線総合技術センターに勤務。 

高橋  宏(たかはし ひろし)
 昭和43年、東京大学理学部化学科卒業。現在、東京大学工学部客員教授、理学博士。
 『光テクノロジー』(通商産業調査会出版)、『シリコンバレーモデル』(NTT出版)。
 地球環境工学と情報通信技術の融合の研究。

速水 弘之(はやみ ひろゆき)
 昭和42年3月、京都大学工学部卒業。
 三菱電線工業株式会社の研究部、機械研究室などにて材料の研究開発、生産設備開発に
従事後、約20年イメージガイドなど光応用製品の母材・線引き・耐放射線性の技術開発
に従事。工学博士。
 京都大学工学部大学院の「新素材特論」で平成10〜12年非常勤講師。

山田 明孝(やまだ としたか)
 昭和53年3月、東北大学工学研究科修了。株式会社東芝入社以降、レーザーとその応
用開発を行なう。
 現在、財団法人製造科学技術センターフォトンセンターにて、国家プロジェクトを推進
している。

構成と内容
第1講 光ファイバと光通信システム
 長谷川 宏  社団法人電線総合技術センター 主管研究員  1.はじめに  2.光通信の歴史   2.1 通信の基本構成   2.2 光の通信への応用    2.2.1 光通信の基本    2.2.2 光通信の課題と新たなニーズ   2.3 光ファイバ開発の歴史   2.4 光ファイバにおける光伝送損失の表し方  3.光ファイバの実際   3.1 光の伝搬理論と光ファイバにおける光の伝搬原理    3.1.1 フェルマの定理   3.1.2 スネルの法則   3.1.3 臨界角と全反射   3.2 SI型光ファイバにおける光の伝搬    3.2.1 屈折率分布     3.2.2 マルチモード   3.3 さまざまな光ファイバ    3.3.1 用途        3.3.2 構造と性質   3.4 光ファイバの製造方法   3.5 光ケーブルの製造工程(VAD)   3.6 光ケーブルの断面構造  4.光通信システム   4.1 光通信システムの分類   4.2 光海底ケーブル   4.3 エルビウムドープファイバを用いた光増幅器   4.4 光信号直接増幅   4.5 ATM(Asynchronous Transfer Mode)   4.6 ATMの特長   4.7 河川光ネットワーク   4.8 光情報HUB   4.9 光アクセスネットワークの形態   4.10 PDSを用いた光伝送システムの概念  5.光ファイバの応用システム   5.1 光ファイバのセンサへの応用    5.1.1 伝送路として使うもの    5.1.2 光ファイバ自身をセンサとして使うもの   5.2 光ファイバ浸水検知センサ   5.3 光ファイバ浸水検知システム   5.4 光ファイバ温度センサ   5.5 光ファイバセンサの今後の課題  6.今後の動向   6.1 オール ウェーブ ファイバ(All Wave Fiber)   6.2 超高速光伝送システムの発展   6.3 各地で行なわれているマルチメディア実験   6.4 光ケーブルのLCA    6.4.1 光ケーブルのLCA計算結果(ケーブル間CO2発生量比較)    6.4.2 光ケーブルのLCA計算結果(製造工程間CO2発生量比較)  7.今後の光ケーブルに求められる特性
第2講 WDM時代の光ファイバ
 高橋  宏  東京大学大学院 工学系研究科化学システム工学専攻 教授  1.はじめに  2.光通信技術の特徴  3.光ファイバの開発史   3.1 理論的損失限界の達成   3.2 超低損失光ファイバへの挑戦   3.3 伝送容量の増大と量産技術による低コスト化  4.光ファイバの種類と伝送容量  5.伝送容量のさらなる増大に向けて:波長分散の改善  6.光ファイバの構造分散:分散シフト光ファイバ  7.光通信技術の新たな流れ  8.WDM技術における信号強度の平準化:光増幅器  9.分散の平準化:分散補償光ファイバ、分散フラット光ファイバ  10.WDM用光ファイバ  11.WDM技術はどのようにして実用技術となったのか  12.おわりに
第3講 石英系イメージファイバを主とした光ファイバの     耐放射線性研究
 速水 弘之  三菱電線工業株式会社         情報通信事業本部 光・電子技術部 専門部長  1.はじめに  2.ファイバスコープ   2.1 ファイバスコープの原理   2.2 イメージファイバの特徴・製造方法   2.3 ファイバスコープの利用例  3.学会での発表   3.1 日本原子力学会−1985年   3.2 SPIE(ボストン)−1988年   3.3 発表の詳細   3.4 日本原子力学会−1989年秋の大会   3.5 ENC(フランス・リヨン)−1990年   3.6 第3回ニューガラス国際シンポジウム−1991年10月    3.6.1 参加のきっかけとシンポジウムの概要    3.6.2 学会での質問・専門家の見解       1)光ファイバメーカー、大学、国立研究機関の関係者       2)ガラス会社などの専門家       3)まとめ   3.7 日本原子力学会−1991年秋の大会    3.7.1 供試材料とγ線照射実験   3.7.2 照射劣化による色の変化   3.8 日本原子力学会誌   3.9 (社)応用物理学会学術講演会    3.9.1 ESR測定との対比   3.9.2 レーザーラマン測定    3.9.3 石英の結合   3.10 日本原子力学会−1994年秋の大会  4.結論  5.質問  6.1994年秋の大会 結果報告
第4講 産業技術基盤研究開発プロジェクト「フォトン計測・加工     技術」とレーザープロセッシングにおける光ファイバ技術
 山田 明孝  財団法人製造科学技術センターフォトンセンター 主席研究員  1.はじめに  2.国家プロジェクトによるレーザー開発  3.フォトン計測・加工技術プロジェクト   3.1 目的    3.2 開発内容  4.この技術で何ができるようになるか   4.1 LD高出力固体レーザー   4.2 高集光固体レーザー   4.3 計測用レーザー  5.研究開発の組織  6.スケジュール  7.個別の技術解説   7.1 高出力完全固体化レーザー技術  7.2 高集光完全固体化レーザー技術   7.3 マクロ加工技術         7.4 ミクロ加工技術   7.5 in-situ状態計測技術    7.6 非破壊組成計測技術  8.最新の成果   8.1 高出力完全固体化レーザー技術((株)ファナック)    8.1.1 目的と目標   8.1.2 開発の経緯と各種技術   8.2 高出力完全固体化レーザー技術((株)東芝)    8.2.1 目的と目標、開発の経緯   8.2.2 効率分析    8.2.3 移行効率、光源効率の向上  8.2.4 多段共振器による高出力化   8.3 高集光完全固体化レーザー技術       (三菱電機(株)、大阪大学、(株)光学技研)    8.3.1 レーザー装置の概要   8.3.2 紫外線発生技術   8.4 構造体型ファイバレーザー    8.4.1 目的と目標、世界との比較    8.4.2 従来のファイバレーザー         1)ダブルクラッド方式   2)平行横励起ファイバ    8.4.3 構造体型ファイバレーザーの原型と発展   8.5 高集光完全固体型レーザー技術(浜松ホトニクス(株))  9.マクロ加工技術  10.実用化の見通し  11.光ファイバ伝送の産業応用   11.1 レーザー加工の概要        11.2 レーザー加工の種類と適用分野   11.3 発振形態とレーザー加工系のしくみ 11.4 レーザー加工の実際   11.5 実用化例  12.光ファイバによるパワー伝送と応用   12.1 パワー伝送のしくみ  12.2 技術課題と開発項目  12.3 試験装置

SSL グローバルサインのサイトシール
FAXでもお申し込みいただけます。FAXお申し込み用紙(PDF)を印刷いただき、必要事項をご記入のうえ
 弊社までご送信ください。(FAX番号は、お申込用紙に印刷されています)
※PDF形式のファイルをご覧頂くための Adobe Reader は、アドビ システムズ社から無償提供されています。
                Adobe Reader 最新版ダウンロードはこちらから

■ お問い合わせの前に『よくあるご質問(書籍)』をご一読下さいませ ■