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微細加工技術[基礎編]
[コードNo.03NTS088]

■体裁/ B5判 上製 208頁
■発行/ 2002年 9月 30日
(株)エヌ・ティー・エス
■定価/ 25,920円(税込価格)

高分子学会主催「ポリマーフロンティア21 微細加工技術の将来展望」セミナー(2002年4月)を編集。
サブミクロン程度までの微細加工技術を解説。
対象を高分子材料に限定せず、ナノテクノロジーへの展開までを示す。

執筆者一覧(執筆順)
大津 元一 
河田 聡

益子 信郎
下田 達也
 東 博純
緒方 寿幸
東京工業大学大学院総合理工学研究科教授
大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻教授/
阪大フロンティア研究機構機構長/理化学研究所主任研究員
(独)通信総合研究所関西先端研究センターナノ機構グループグループリーダー
セイコーエプソン(株)テクノロジープラットフォーム研究所理事・所長
(株)豊田中央研究所有機材料研究室主任研究員
東京応化工業(株)開発本部先端材料開発一部技術主任

構成と内容
第1講 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工
1. はじめに 2. 21世紀の社会の要求 3. ナノフォトニクスよる限界打破  3.1 近接場光の発生と使用   3.2 微細加工 4. 結論と今後の展望
第2講 フェムト秒レーザーによる超微細光造形法
1. 3次元超微細光造形  1.1 ナノの世界        1.2 非線形光学によるナノフォトニクス  1.3 フェムト秒レーザー    1.4 光重合性樹脂  1.5 3次元ナノ微細加工     1.6 3次元機能性構造  1.7 分解能の評価       1.8 1光子過程によるファイバ成長  1.9 3次元フォトニック結晶 2. 3次元光記録 3. SHG(第2高調波)像 4. CARS(コヒーレントアンチストークスラマン散乱) 5. 近接場光学顕微鏡
第3講 自己組織化的手法による微細加工
1. はじめに 2. デンドリマー構造を利用した発光材料の研究  2.1 デンドリマー構造と発光特性  2.2 共振器のいらないデンドリマー分散型固体レーザーの発振 3. デンドリマーを用いた単電子トンネル素子の研究  3.1 単電子トンネル素子のねらい  3.2 膜構造による単電子トンネル素子の作成  3.3 分子のサイズの算出  3.4 単電子トンネル素子の光制御 4. 基板上での分子の組み立て  4.1 組み立て方法  4.2 組み立てのためのポルフィリン分子  4.3 選択的分子会合による構造の作成 5. まとめ
第4講 マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望
1. はじめに 2. 薄膜電子デバイスとマイクロリキッドプロセス  2.1 薄膜電子デバイス産業の無駄  2.2 マイクロリキッドプロセスとは何か  2.3 マイクロリキッドプロセスによる電子デバイスの作成とその進化 3. インクジェット技術  3.1 インクジェットの現象  3.2 液滴の動作を決定するエネルギー 4. インクジェット法によるカラーフィルタの作成  4.1 テクノロジー・マッチング  4.2 インクジェットの精度  4.3 撥水と親水 5. インクジェット法による有機ELディスプレイの作成  5.1 有機ELディスプレイの作成  5.2 成膜プロセス  5.3 成膜の微細技術 6. インクジェットで有機トランジスタを描く  6.1 有機TFT(TFT:Thin Film Transistor)の取り柄  6.2 有機TFT作成技術 7. マイクロリキッドプロセスの今後の展望
第5講 連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価
1. はじめに 2. 光源の波長と応用 3. EUVリソグラフィ試験 4. 各種におけるEUV光源タイプ  4.1 キャピラリー放電    4.2 レーザープラズマ 5. レーザープラズマEUV光源装置 6. EUV波長と露光 7. 溶解速度の測定方法 8. レーザープラズマ光源の課題(モニタリング) 9. レーザープラズマ光源の課題(デブリ対策) 10. まとめ
第6講 新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発
1. はじめに 2. 露光波長でのレジスト材料  2.1 ArFレジスト材料  2.2 F2レジスト材料  2.3 EUVレジスト材料 3. まとめ

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