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光を操る高分子・光が操る高分子
〜次世代材料の可能性を探る〜
[コードNo.06NTS153]

■体裁/ B5判・220頁
■発行/ 2006年 2月 3日
(株)エヌ・ティー・エス
■定価/ 26,784円(税込価格)

 光機能性高分子は、構造の多様性と成型の任意性や軽量性・フレキシブル性・安全性等の特徴からガラスに代わる光学材料として大いに成長し、IT革命を支えるこれらの高機能ポリマー材料は日本の独壇場となっています。今後さらに伸長を続ける光機能性高分子の次世代を支える基礎研究と応用について、光を操る高分子だけでなく光によって操られる高分子の側面から、最新の研究・開発成果を解説する。

※高分子学会主催「ポリマーフロンティア21 主題=光を操る高分子・光が操る高分子−次世代材料の可能性を」セミナー(2005年9月)を講演録として編集。

執筆者一覧(執筆順)
山之内淳一富士写真フイルム(株)R&D統括本部先進コア技術研究所研究担当部長
竹添 秀男東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻教授
木下修一大阪大学大学院生命機能研究科教授
金子和(株)オプトウエア技術開発グループ主幹研究員
高津晴義大日本インキ化学工業(株)液晶材料技術本部技術本部長
堀越裕三菱ガス化学(株)東京研究所研究グループ副主任研究員
白井正充大阪府立大学大学院工学研究科応用化学分野教授

詳細目次
序文(山之内淳一)
 
フォトニック結晶としての液晶とデバイス(竹添秀男)
1はじめに
1.1フォトニック効果とは
2コレステリック液晶からのレージング
2.1分布帰還型レーザー
2.2異方的欠陥層によるレージング
2.3しきい値を下げるための試み
3コレステリック液晶を用いた光ダイオード
3.1原理、シミュレーション、実験
3.2光ダイオードへの期待
 
構造色の世界 生物が作るナノ構造(木下修一)
1構造色とは
1.1薄膜干渉
1.2多層膜干渉
1.3散乱
1.4フォトニック結晶
2モルフォチョウ
2.1モルフォチョウとは
2.2モルフォチョウはなぜ青く光るか
2.3モルフォチョウの翅の構造
2.4回折格子を手がかりに
2.5モデルによる確認
2.6まだ残る疑問点
2.7モルフォチョウの構造色のまとめ
3モルフォチョウの構造色を再現する
3.1モルフォチョウの構造モデル
4自然界の構造色
4.1多層膜干渉
4.2フォトニック結晶
4.3制御された散乱を用いた構造色
4.4白、黒を際立たせる構造
4.5回折格子の構造色
5ツヤ、質感の再現
 
ホログラフィック記録再生技術(金子和)
1はじめに
2次世代光ディスクとしてのホログラフィックストレージ
3ホログラフィックストレージを実現するコリニアテクノロジー
3.1コリニアホログラフィーの記録方式
3.2記録・再生のシークエンス
3.3サーボ光としての赤色光
3.4大容量化
3.5コリニアホログラフィックドライブの光学系
3.6標準化に向けて
4コリニアホログラムに要求される材料
4.1ホログラフィック記録材料
4.2フォトポリマーに要求される性能
4.3評価機器とその実例
4.4光反応による材料の収縮
4.5記録特性の温度依存性
4.6コリニア方式記録再生試験機を用いた材料評価
4.7材料の寿命と安全性
4.8コリニア方式ホログラフィックストレージシステム側から見た材料への要求特性
 
重合性液晶と光配向膜(高津晴義)
1はじめに
1.1LCDの市場動向
1.2LCD高性能化のための液晶―高分子複合体
2重合性液晶とは
2.1重合性液晶の特徴
2.2重合性液晶の主要用途
3重合性液晶の作製方法
3.1フィルムの作製
3.2液晶の配列制御
3.3ねじれの制御
3.4垂直制御、傾きの制御
3.5硬化温度による位相差の制御
3.62段階照射による位相差の制御
3.7温度依存性を持つ位相差フィルム
3.8インセルリターダーへの応用
4アゾ染料系光配向膜材料
4.1アゾ染料SDI
4.2重合性アゾ染料
4.3特徴
4.4今後の課題
 
高屈折率熱硬化性樹脂(堀越裕)
1はじめに 高屈折率、高アッベ数の必要性
1.1屈折率について
1.2アッベ数
1.3屈折率とアッベ数との関係
2プラスチックの分子構造からの屈折率、アッベ数の推算
2.1屈折率の推算
2.2分子構造からのアッベ数の推算
3プラスチックレンズの高屈折率化の手法
4眼鏡用プラスチックレンズの高屈折率、高アッベ数化の歴史
4.1初の眼鏡用プラスチックレンズ材料
4.2高屈折率材料(1)
4.3高アッベ数材料(1)
4.4高アッベ数材料(2)
4.5高屈折率材料(2)
5近年のレンズの高屈折率化
5.1ポリマー設計からの考察
5.2モノマーからの考察
5.3材料設計
5.4開発材料の物性、特徴
6プラスチックレンズの市場
7今後の樹脂の高屈折率化の動向
7.1芳香環導入
7.2硫黄の高含有率化
7.3金属や半金属原子の導入
7.4今後の展開
 
最新フォトポリマー設計技術(白井正充)
1はじめに
2半導体用フォトレジスト
2.1KrFレジスト
2.2ArFレジスト
2.2.1ArFレジストの課題
2.2.2ネガ型レジスト
2.2.3ラフネスを減らすために
2.3液浸リソグラフィー
2.4EB、EUVレジスト材料
2.5分子レジスト
2.6光酸発生剤
3光架橋、硬化樹脂
3.1環境対応型光重合開始剤
3.2酸素阻害を受けない硬化系
3.3高機能と環境調和を図った再溶解型光架橋・硬化樹脂
 
まとめ
 

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