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ナノインプリントの技術と開発戦略    
Development Strategy of Nanoimprint Lithography
[コードNo.2011Z195]

※ 本書籍はご試読頂けません ※

■編集/ (株)シーエムシー出版(制作協力:クレストン )
■体裁/ A4判 373ページ
■発行/ 2011年 5月 (株)シーエムシー出版
■定価/ 86,400円(税込価格)
■ISBNコード/ 978-4-7813-0306-2

 
★ナノインプリント技術を61(一部本書独自の呼称)に分類、解析!
★基礎技術から応用まで3,577件の特許公報を精査、出願人(法人、個人)数は国内310、外国320!
★大学・研究所出願、特許公報一覧、登録番号対照、主要パテントファミリーなど、豊富なデータを満載!

キーワード

ナノインプリント/リソグラフィー/微細加工/微細パターン/金型/モールド/エンボス/レジスト/熱可塑性樹脂/光硬化性樹脂/PDMS/半導体/μTAS/MEMS

刊行にあたって

 半導体デバイスや記録媒体、光学デバイスから電子ディスプレイ、μTAS・MEMSまで、微細パターン形成技術は基幹的な工業技術となっている。より微細でより簡易なパターン形成加工技術の確立が求められてきた。
 「ナノインプリントリソグラフィー」というナノサイズの微細凹凸パターン形成技術が、S.Y.Chouらにより提唱されたのは、1996年である。同技術はプレス装置を用いた従来のホットエンボス技術を、リソグラフィーに応用したものである。今までの代表的なリソグラフィー技術であるフォトリソグラフィーにおける露光・現像工程を不要とし、大幅なプロセスの簡略化が図られる。さらに紫外線利用のフォトリソグラフィー以上に超微細な凹凸パターンの形成を可能とするものだった。その革新性は、世界を驚嘆させた。
Chouらによる提唱から10余年にすぎない今日、すでにナノインプリント装置も発売され、多くの関連新技術も次々と提案され、技術開発は全世界的な動きとなっている。
 微細加工技術は日本企業が得意とするものであり、それを支える周辺産業も充実している。多くの研究機関、大学、企業の取組みも活発になっている。ナノインプリント産業が日本の基幹産業の一翼として、また日本ならではの先進技術として発展することが期待される。
 本書は、熱ナノインプリント、光ナノインプリント、およびマイクロコンタクトプリントなどの基幹技術に止まらず、そこから派生する数多くの提案技術にも注目し、関連特許公報の精査、解析により、ナノインプリント技術の発展の全貌を明らかにするとともに、今後の展望をみたものである。関連産業に携わる企業の方々、研究に関わる方々、これらの技術に注目されている方々に本書のご一読をお勧めする。

構成および内容

第1編 ナノインプリントの技術と展開

1章ナノインプリントの開発
1微細凹凸パターン形成方法
(1)型転写法
[1]射出成形法
[2]プレス成形法
[3]注型成形法
(2)フォトリソグラフィ
2ナノインプリントの開発と技術
(1)熱ナノインプリント
(2)光ナノインプリント
(3)ソフトリソグラフィ
3ナノインプリント技術の分類と種類
4ナノインプリントの応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)半導体デバイス
3)光・光デバイス
4)電子ディスプレイ
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
[3]環境、エネルギー関連
5ナノインプリントの関連文献

第2編 ナノインプリントの特許動向の概要

2章特許動向の解析と概要
1関連特許の調査解析対象
(1)調査解析の対象
(2)関連用語
2特許動向の概要
(1)ナノインプリント特許の分類別件数推移
(2)ナノインプリント特許の分類別件数構成比
3主要特許とパテントファミリー

第3編 ナノインプリントの技術と特許動向

3章熱ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
[1]転写方法
1)プレス方法
2)加熱、冷却条件
3)転写層のプレス加工
[2]離型方法
(2)転写材料
[1]樹脂
[2]添加剤
[3]物性
[4]複層転写層
(3)モールド
[1]形状
1)凹凸形状
2)湾曲モールド
3)円筒状モールド
[2]特性
[3]被覆層
[4]複層構造
[5]作成方法
1)成膜・離型
(a)注型成形
(b)乾式成膜
(c)湿式成膜
2)エッチング加工
3)直接加工
(4)離型剤
1)有機系
2)無機系
(5)転写装置
[1]複数のモールド、基板
[2]プレス装置
1)圧縮緩衝装置
2)プレス条件の設定
[3]加熱・冷却装置
1)加熱装置
2)冷却装置
[4]モールド・基板支持部材
1)モールド支持部材
2)基材支持部材
3)モールド、基材支持部材
[5]周辺制御装置・機構
1)位置制御
2)傾き制御
3)駆動制御
(6)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)磁気記録媒体
(b)光記録媒体
(c)磁気・光記体
2)光デバイス
3)電子ディスプレイ
(a)LCD
(b)EL
(c)FED
4)光デバイス
(a)発光素子
(b)照明装置
(c)フォトニック液晶
(d)偏向子
(e)遮光フィルム
5)その他
(a)インクジェットヘッド
(b)導電性回路
(c)異方性導電層
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロアレイチップ
2)化学・バイオセンサ
3)医療機器・機材
[3]環境、エネルギー関連
4章光ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
[1]転写方法
[2]転写材料の塗布
1)塗布方法
2)塗布領域の制御
3)塗布後の処置
[3]プレス方法
1)ソフトプレス
2)加振プレス
3)光照射方法
(2)転写材料
[1]転写材料
1)ラジカル重合タイプ
2)カチオン重合タイプ
3)ラジカル重合またはイオン重合タイプ
(a)(メタ)アクリレート系
(b)エポキシ系
(c)環化重合系
[2]添加剤
[3]材料特性
[4]転写層上の機能層
(3)モールド
[1]形状
1)凹凸形状
2)全体形状
3)非平板モールド
[2]材料
[3]被覆層
[4]複層構造
[5]補助構造
[6]作成方法
1)無機系モールド
2)樹脂系モールド
[7]周辺部材
(4)転写装置
[1]転写材料の塗布装置
[2]位置決め装置、機構
[3]光照射装置
(5)転写後の処理
(6)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)磁気記録媒体
(b)光記録媒体
2)半導体デバイス
3)電子ディスプレイ
4)光デバイス
5章超音波支援型熱ナノインプリント
1概要
2特許展開
6章電磁波支援型熱ナノインプリント
1概要
2特許展開
7章常温ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写装置
(3)応用
8章溶媒補助型ナノインプリント
1概要
2特許展開
9章加圧気体浸透型ナノインプリント
1概要
2特許展開
10章近接場光型光ナノインプリント
1概要
2特許展開
11章定温ナノインプリント
1概要
2特許展開
12章フォトリソグラフィ複合型光ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)応用
13章ドライフィルムレジスト型ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)応用
14章軟化剤除去型ナノインプリント
1概要
2特許展開
15章モールド分解型ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
16章フレキシブルナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
17章高温焼成型ゾルゲルナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写材料
(2)モールド
(3)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
[2]環境、エネルギー関連
18章室温ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)転写装置
(4)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子ディスプレイ部品
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
19章光硬質型室温ナノインプリント
1概要
2特許展開
20章乾燥膜刻印型ナノインプリント
1概要
2特許展開
21章樹脂溶出型リソグラフィ
1概要
2特許展開
22章キャビティ内重合型リソグラフィ
1概要
2特許展開
23章硬質モールド型毛細管マイクロモールド(硬質型MIMIC)
1概要
2特許展開
24章硬質モールド型毛細管力リソグラフィ(硬質M型CFL)
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
25章ギャップ充填型毛細管力リソグラフィ
1概要
2特許展開
26章リバーサルナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
27章ナノキャスティング
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
28章液状転写層型ナノキャスティング
1概要
2特許展開
29章硬質モールド型マイクロコンタクトプリント(硬質M型μCP)
1概要
2特許展開
30章カソードトランスファー
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
31章無機薄膜型リバーサルナノインプリント
1概要
2特許展開
32章コールドウェルディングリソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
33章堆積型リソグラフィ
1概要
2特許展開
34章静電引力型リソグラフィ
1概要
2特許展開
35章Aレジストナノインプリント/共通
1特許展開
(1)転写技術
[1]プレス方法
1)流体圧力プレス
2)磁力プレス
3)慣性圧力プレス
4)超音波振動プレス
[2]モールドの圧入構造
[3]モールド、基板の組合わせ
1)複数種のモールド
[4]離型方法
(2)転写材料
[1]転写材料
[2]転写層
1)形状
2)複層構造
3)転写層の加工処理
(3)モールド
[1]材料
[2]形状
1)凹凸形状
2)表面粗さ
3)断面形状
4)凹凸領域の周辺形状
5)多版型モールド
[3]被覆層
[4]複層構造
[5]補助構造体
[6]作成方法
1)モールド原盤利用
(a)インプリント単独
(b)後工程/エッチング
(c)後工程/めっき成膜
(d)後工程/その他
2)モールド原盤非利用
(a)電子線リソグラフィ
(b)その他リソグラフィ
(c)関連技術
3)非レジストリソグラフィ
(a)陽極酸化
[7]修復、クリーニング
1)修復
2)切断加工
3)クリーニング
(4)離型剤
[1]有機系
[2]無機系
(5)転写装置
[1]転写材料関連
1)転写材料の供給
2)転写材料の充填、検査
3)パターン層の検査
[2]モールド関連
1)形状の検査、計測
2)モールド支持
3)位置合わせ(平行調整)
4)位置合わせ(距離調整)
5)モールドの傾き計測
6)プレス
[3]基板支持関連
1)支持部材
[4]圧力環境
[5]離型関連
[6]その他
1)エネルギー供給
2)関連工程の組み合わせ
(6)離型後の処理
1)変性処理
2)凸部の加工、補修
(7)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)磁気記録媒体
(b)光記録媒体
2)半導体デバイス
(a)半導体デバイス
(b)電界効果トランジスタ
(c)薄膜トランジスタ
(d)メモリ素子・装置
3)電子ディスプレイ
(a)LCD
(b)EL
(c)電気泳動表示装置
(d)プラズマディスプレイ
4)光・光学デバイス
(a)半導体発光素子
(b)光導波路
(c)フォトニック液晶
(d)偏光素子
(e)位相差・波長素子
(f)回折素子
5)その他
(a)インクジェットヘッド
(b)物理センサ
(c)露光用マスク
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロアレイチップ
2)化学・バイオセンサ
(a)化学センサ
(b)バイオセンサ
(c)化学またはバイオセンサ
3)医療機器等
(a)マイクロニードル
[3]環境、エネルギー関連
1)燃料電池
[4]その他
1)配線基板
2)多孔質構造体
36章直接ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)応用
[1]汎用微細構造体
1)多孔性陽極酸化膜
[2]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子デバイス
3)電子ディスプレイ部品
4)光部品
[3]バイオ、ライフサイエンス関連
37章加熱型直接ナノインプリント
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)転写装置
(5)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子ディスプレイ部品
3)光通信部品
38章静電引力型直接ナノインプリント
1概要
2特許展開
39章AレジストナノインプリントとB直接ナノインプリント/共通
1特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
[1]材料
[2]形状
[3]複層構造
[4]表面特性
[5]製造方法
[6]補修、洗浄
(3)転写装置
(4)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
[3]環境・エネルギー関連
40章マイクロコンタクトプリント(μCP)
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
[1]材料
[2]形状、構造
1)凸部形状
2)面形状
3)構造
[3]表面処理・加工
[4]作成方法
(4)転写装置
(5)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
(a)光記録媒体
2)半導体デバイス
(a)半導体デバイス
(b)有機半導体デバイス
(c)有機電界効果トランジスタ
(d)有機薄膜トランジスタ
3)電子ディスプレイ
(a)LCD
(b)有機EL
4)光デバイス
(a)発光素子
5)その他
(a)インクジェットヘッド
(b)圧電素子
(c)マイクロレンズアレイ
(d)コンタクトレンズ
(e)ナノワイヤ
(f)導電パターン
(g)隔壁
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロ化学チップ
2)化学・バイオセンサ
(a)化学センサ
(b)バイオセンサ
3)医療用部材
[3]環境・エネルギー関連
1)燃料電池
2)太陽電池
[4]その他
1)電極パターン
(a)直接形成・加工
(b)マスク材利用
2)撥液性、親液性パターン
41章マイクロトランスファーモールド
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
42章ナノトランスファープリント(μTM)
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
43章ガス圧支援型マイクロコンタクトプリント
1概要
2特許展開
44章毛細管マイクロモールド
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
(3)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
[3]その他
45章溶媒促進マイクロモールド
46章毛細管力ソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
47章エッジトランスファーリソグラフィ
1概要
2特許展開
48章加圧充填型ソフトリソグラフィ
49章レプリカモールド
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
[1]IT、エレクトロニクス関連
[2]バイオ、ミカルス関連
50章リキッドエンボス
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT、エレクトロニクス関連
51章リフトアップリソグラフィ
1概要
2特許展開
52章ディーカルトランスファーリソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
53章フォトリソグラフィ複合型ソフトリソグラフィ
1概要
2特許展開
54章近接場位相シフトリソグラフィ
1概要
2特許展開
55章表面改質型ソフトリソグラフィ
1概要
2特許展開
56章Cソフトリソグラフィ/共通
1特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
[1]材料
[2]形状、構造
[3]作成方法
[4]補助部材
(3)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT、エレクトロニクス関連
1)半導体デバイス
(a)有機電界効果トランジスタ
(b)有機薄膜トランジスタ
2)光デバイス
3)電子ディスプレイ
[2]バイオ、ライフサイエンス関連
1)マイクロ化学・バイオチップ
(a)マイクロ流路システム
(b)マイクロアレイチップ
2)化学・バイオセンサ
3)医療機器・機材
[3]環境、エネルギー関連
57章AレジストナノインプリントとCソフトリソグラフィ/共通
1特許展開
(1)転写材料
(2)モールド
(3)転写装置
(4)応用
[1]汎用微細構造体
[2]IT、エレクトロニクス関連
1)記録媒体
2)電子デバイス
3)光デバイス
4)電子ディスプレイ
[3]バイオ、ケミカルス関連
1)マイクロバイオ・化学チップ
(a)マイクロ流路システム
(b)バイオチップ
[4]環境・エネルギー関連
58章化学的変性型リソグラフィ
1概要
2特許展開
59章ナノ電極リソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)転写材料
(3)モールド
(4)転写装置
(5)応用
60章帯電リソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)モールド
(3)応用
61章磁性変性型リソグラフィ
1概要
2特許展開
62章結晶性変性型リソグラフィ
1概要
2特許展開
63章加圧相変性型リソグラフィ
1概要
2特許展開
64章プラズマエッチング型リソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
65章光触媒リソグラフィ
1概要
2特許展開
(1)転写技術
(2)応用
66章燃焼除去型リソグラフィ
1概要
2特許展開
67章昇華除去型リソグラフィ
1概要
2特許展開

第4編 主要企業の特許展開

68章主要企業の特許展開
[1]セイコーエプソン
[2]キヤノン
[3]東芝
[4]TDK
[5]リコー
[6]富士フイルム
[7]凸版印刷
[8]フィリップス
[9]富士ゼロックス
[10]パナソニック
69章大学研究者の出願動向

第5編 関連特許公報一覧

70章関連特許公報一覧
[1]調査解析テーマと対象範囲と対象期間
[2]関連特許公報一覧の作表基準
[3]年別公開・公表・再公表特許公報一覧
[4]年別公開特許-特許番号対照
[5]特許番号-公開・公表・再公表特許対照



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