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<セミナー詳細>

セミナーコード:20110202   このセミナーの受付は終了しています
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★本セミナーでは、オゾンの特性(OHラジカルの特性を含め)・水処理への適用から、浄水・下水・排水・汚泥処理への応用と
 水リサイクル技術の展開、又、オゾン発生器(オゾナイザ)の開発動向、海外での応用動向などに至るまで、斯界の第一線で
 ご活躍中の安永博士に詳しく解説頂きます。

オゾンによる水処理技術およびその応用と展開
●講 師 三菱電機(株) 先端技術総合研究所
環境システム技術部 水質制御グループ
主席研究員
工学博士
安永 望 氏
●日 時 2011年 2月 2日(水) 10:30〜16:30
●会 場 東京・新お茶の水・総評会館・4F会議室  》》 会場地図はこちら 《《
※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで!!
●受講料 49,980円(1名につき)
(同時複数人数お申込みの場合1名につき44,730円)
※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主 催 (株)技術情報センター

●セミナープログラム●
T.オゾンの特性と水処理の基礎

 1.オゾンの特性
  (1)オゾンの酸化力
  (2)オゾンの自己分解
 2.オゾンの水処理への適用
  (1)オゾンの反応性
  (2)オゾンの水への溶解特性
 3.OHラジカルの特性
  (1)OHラジカルとは
  (2)OHラジカルの発生方法
  (3)スカベンジャとは
 4.オゾンの発生方法


U.オゾン水処理技術の応用

 1.オゾン処理
  (1)浄水処理
  (2)下排水処理
  (3)汚泥処理
 2.オゾンを用いた促進酸化処理
  (1)浄水処理
  (2)地下水処理
  (3)下排水処理
 3.オゾン発生器の開発動向
 4.オゾンの海外での応用動向


V.オゾン水処理技術の水リサイクル技術への展開

 1.水資源
 2.事業所の水リサイクル
  (1)水リサイクルを検討するにあたって
  (2)水リサイクル検討の手順
 3.事業所の水リサイクルの検討例
  (1)家電事業所における水リサイクル
  (2)半導体事業所における水リサイクル


W.質疑応答
−名刺交換会−
セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。

関連セミナー実績

2010. 8.27 OHラジカルの生成法と環境浄化への応用技術
2010. 4.21 オゾンによる水処理技術の開発動向
2009. 8.20 OHラジカル類・オゾンの生成法と環境浄化・殺菌
2008. 9.12 OHラジカルの生成法と環境浄化への応用
2007.10.11 OHラジカルの生成法と環境浄化への応用