セミナーコード：20140202　　　このセミナーの受付は終了しています
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★本セミナーでは、オゾン・過酸化水素・紫外線・触媒・光触媒・Fentonなどを用いたＯＨラジカルの生成法・ 　化学的特性と、具体的な水処理（産業排水、浄水、下水）及びオゾン／触媒による環境浄化など応用技術 　について、最近の動向も織り交ぜ、経験豊富な中山博士に詳しく解説頂きます。

ＯＨラジカル(ラジカル反応･活性種)の 生成法と環境浄化への応用技術

●講　師	関西オゾン技術研究会代表 (元)三菱電機(株) 本社　社会システム事業部　主管技師長 ＮＰＯ法人 日本オゾン協会　顧問 理学博士	中山繁樹 氏
●日　時	２０１４年　２月　１３日（木）　１０：００〜１６：３０
●会　場	東京・新お茶の水・連合会館（旧 総評会館）・４Ｆ会議室　　》》 会場地図はこちら 《《 ※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで！！
●受講料	４９,９８０円（１名につき） （同時複数人数お申込みの場合１名につき４４,７３０円） ※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主　催	(株)技術情報センター

●セミナープログラム●

�T．ＯＨラジカルの生成法と化学的特性 　１．ＯＨラジカルについて 　　１.１ なぜ、ＯＨラジカルか 　　１.２ ＯＨラジカルの酸化力について 　　１.３ ラジカルとは 　２．ＯＨラジカルおよび酸素原子の生成 　　２.１ オゾン／水の紫外光分解によるＯＨラジカルの生成 　　２.２ 過酸化水素の分解によるＯＨラジカル生成 　　２.３ 水中オゾンの自己分解によるＯＨラジカル生成 　　２.４ 過酸化水素とオゾンの反応によるＯＨラジカル生成 　　２.５ 触媒／オゾンによるＯＨラジカル生成 　　２.６ Ｆｅｎｔｏｎ反応 　　２.７ 光触媒 　　２.８ 水の真空紫外光分解 　　２.９ 放射線照射 　　２.10 放電 　　２.11 オゾンと有機化合物の反応 　３．ＯＨラジカルの測定方法　〜プローブを用いる方法〜 　　３.１ 直接測定 　　３.２ ラジカル捕捉剤 　４．ＯＨラジカルの効果 　　４.１ オゾン／過酸化水素処理 　　４.２ オゾン／紫外線照射処理 　５．反応モデルとシミュレーション 　　５.１ 水中オゾンの自己分解によるＯＨラジカル生成 　　　(1)純水中オゾンの自己分解速度実験式 　　　(2)自己分解反応モデル 　　　(3)反応モデルによるシミュレーション 　　　　1) 自己分解速度のｐＨ依存性 　　　　2) 自己分解中間生成物 　　　　3) 重炭酸／炭酸イオンの影響 　　５.２ 水相オゾンへの過酸化水素添加 　　　(1)過酸化水素添加の効果 　　　(2)初期オゾン濃度の効果 　　　(3)ｐＨ効果 　　　(4) ＯＨラジカルと被酸化物の反応 　　　　1) プロファイル 　　　　2) オゾン利用効率のｐＨ依存性 　　　　3) 過酸化水素濃度 　　　　4) 無機炭素 　　　　5) エタノール 　　　　6) エタノールの酸化機構 　　５.３ オゾン／紫外線 　　　(1)紫外線照射および強度の効果 　　　(2)ｐＨ効果 �U．ＯＨラジカルの環境浄化への応用と最近の技術動向 　１．浄水の高度処理 　　１.１ 農薬の分解 　　１.２ 臭気物質の除去 　　　(1)オゾン／過酸化水素による臭気除去 　　　(2)有機物とオゾンの反応により生成したＯＨラジカルによる臭気除去の検証 　２．下水処理水の高度処理 　　２.１ オゾン／過酸化水素による二次処理水の高度処理 　　２.２ オゾン／紫外線による二次処理水の高度処理 　　２.３ 環境ホルモンの除去 　　２.４ 微生物の殺菌、不活化 　　　(1)芽胞 　　　(2)大腸菌ファージ 　　　(3)Ｅ-ｃｏｌｉ 　　２.５ 最近の技術動向 　３．産業排水等 　　３.１ 電着塗装排水のＣＯＤ除去 　　３.２ ダイオキシン分解 　　　(1)埋立地浸出水のＵＶ／Ｏ３および ＵＶ／Ｏ３／Ｈ２Ｏ２処理 　　　(2)焼却炉洗浄水処理 　　３.３ 難酸化性微量有害化学物質の分解 　　３.４ 医薬品の処理 　　３.５ 最近の技術動向 　４．オゾン／触媒による環境浄化 　　４.１ 酸化チタン 　　４.２ Ｖ-Ｏ 　　４.３ 均一触媒および不均一触媒 　　４.４ 遷移金属イオン 　　４.５ 最近の技術動向 　５．その他の応用動向 　　〜排ガス処理、室内空気浄化、脱臭・殺菌〜 �V．ＯＨラジカルの環境浄化への応用の意義と課題 �W．質疑応答＜適宜＞

−名刺交換会− セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。

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