谷口　彬雄　たにぐち　よしお 
信州大学繊維学部機能高分子学科 教授
昭和47年 大阪大学大学院博士課程修了。工学博士。
同年株式会社日立製作所中央研究所入所。基礎研究所を経て、平成8年4月信州大学繊維学部教授。
有機エレクトロニクス材料の研究。現在、有機LED、有機半導体レーザの研究を進めている。

大塚  寛治  おおつか  かんじ 
明星大学情報学部電子情報学科 教授
東京大学先端科学技術研究センター客員研究員、エレクトロニクス実装学会理事
昭和33年 京都工芸繊維大学窯業科卒業。東京工業大学工学博士、IEEE Fellow。
34年間、株式会社日立製作所半導体事業部とコンピュータ事業部に勤務。
平成5年より明星大学教授、平成７年よりエレクトロニクス実装学会理事、
平成9年よりIMSIサブリーダー、平成10年より東京大学先端科学技術研究センター客員研究員、
同年より超高密度電子SIプロジェクトメンバー、平成11年よりIEEE/CPMT Board of Governor。

長谷川悦雄  はせがわ  えつお 
日本電気株式会社 機能デバイス・材料研究本部,機能材料研究所 有機材料TG 研究部長
昭和53年3月 早稲田大学大学院博士課程修了。工学博士。平成3年 日本電気株式会社入社。
現在、同社機能材料研究所有機材料研究部長。有機電子材料の研究開発を担当。

小池  康博  こいけ  やすひろ 
慶應義塾大学 理工学部物理情報工学科 教授
昭和57年3月 慶應義塾大学大学院博士課程修了。工学博士。現在、慶應義塾大学理工学部教授。
平成12年10月より科学技術振興事業団ERATOプロジェクト総括責任者。
米国プラスチック工学会国際技術賞受賞。高速伝送POF等のフォトニクスポリマーの開発。

石榑  崇明  いしぐれ  たかあき 
慶應義塾大学 理工学部物理情報工学科
平成8年3月 慶應義塾大学大学院後期博士課程修了。工学博士。
財団法人神奈川科学技術アカデミー研究員を経て平成10年4月より慶應義塾大学理工学部助手。
現在、POFを中心としたファイバオプティクスの研究に従事。

都丸  暁  とまる  さとる 
NTTアドバンステクノロジ株式会社 先端技術事業本部光デバイス事業部 
光マイクロデバイス技術部 主幹担当部長
昭和53年 東京大学大学院工学研究科修士課程修了。工学博士。NTTフォトニクス研究所 主幹研究員。
現在NTTアドバンステクノロジ株式会社光デバイス事業部にてポリマー導波路デバイスの実用化に従事。
VAD法光ファイバの研究、有機光非線形材料の研究等に過去従事していた。

岡田  豊和  おかだ  とよかず 
住友化学工業株式会社 光学製品事業部 光学製品部 主席部員
昭和49年3月 九州大学大学院応用化学専攻修士課程修了。同年4月 住友化学工業株式会社入社。
中央研究所配属。合成紙や分離膜の開発研究の後、昭和58年から偏光フィルムや位相差板の研究に従事。
平成4年に事業部門に移り現在にいたる。

第１講　マルチメディアにかかわる高分子材料　−将来の夢−
　　　　　谷口 彬雄　信州大学

　１．はじめに
　２．歴史的な概観
　３．2010年での技術課題
　４．情報伝達にかかわるデバイス（光源、伝送路等）
　５．有機半導体レーザの可能性
　　5.1　有機半導体レーザの研究開発戦略
　　　5.1.1　レーザ色素材料の検討
　　　5.1.2　電極による消光の問題
　　　5.1.3　導波路構造の設計
　　　5.1.4　フォトニック結晶
　６．情報処理にかかわるデバイス
　７．情報記録にかかわるデバイス
　８．情報表示にかかわるデバイス
　 

第２講　実装分野の技術動向と高分子材料への期待
　　　　　大塚 寛治　明星大学

　１．はじめに
　２．システムはどこへいくのか
　３．複雑化の概略
　　3.1　複雑化の流れ
　　3.2　単純化のための基本的要素は何か
　　　3.2.1　システムの基本について
　　　3.2.2　複雑になる傾向の仕組み
　　　3.2.3　単純なコンピュータとは
　４．システム単純化の動き
　　4.1　インテル（株）の経緯
　　4.2　ＩＢＭ社の経緯
　　4.3　速度ギャップの犯人
　５．ＲＡＭＢＵＳの出現
　　5.1　ＲＡＭＢＵＳの採用
　　5.2　高速バスシステムの事例
　６．材料内部への改善要求
　　6.1　電流の表皮効果
　　6.2　誘電率とは何か
　　6.3　期待される有機絶縁層配線構造
 ７．おわりに


第３講　超解像レジストの研究開発動向
　　　　　長谷川悦雄　日本電気(株)

　１．はじめに
　２．レジスト／リソグラフィ／半導体微細加工
　　2.1　半導体市場の現状と動向
　　2.2　ロードマップ
　　2.3　レジストの現状と動向
　　2.4　フォトリソグラフィと光吸収
　　2.5　レジストの要求性能
　　2.6　レジスト方式の変遷
　　2.7　フォトレジスト市場の動向
　３．次世代量産リソグラフィ（ArFエキシマレーザ）用レジスト
　　3.1　ポジ型レジスト（極性脂環構造）
　　　3.1.1　レジスト材料の開発経緯
　　　3.1.2　機能分離型ポリマー
　　　3.1.3　機能集積型ポリマー
　　　3.1.4　機能集積型ポリマーの特性
　　3.2　ネガ型レジスト（脂環ラクトン構造）
　　　3.2.1　メモリーLSI（記憶回路）からロジックLSI（論理回路）への移行
　　　3.2.2　回路パターンの相違
　　3.3　感光剤（βーオキソアルキル構造）
　　　3.3.1　開発経緯
　　　3.3.2　ALS、NEALSの特徴
　４．次々世代の量産リソグラフィについて
　　4.1　ポストArFの露光技術の現状と問題点
　　4.2　今後の課題


第４講　プラスチック光ファイバの最近の話題
　　　　　小池 康博，石榑 崇明　慶應義塾大学

　１．はじめに
　２．POFの種類と構造
　３．PMMA系POF
　４．ファイバ内の屈折率分布形成
　５．伝搬モード解析
　６．全フッ素化ポリマー系GI型POF
　７．おわりに


第５講　ポリマー光導波路とのキャッチボール
　　　　　都丸　暁　NTTアドバンステクノロジ(株)

　１．はじめに
　２．ポリマー光導波路の特徴
　　2.1　ポリマー光導波路
　　2.2　石英系ガラス光導波路の特徴
　　2.3　ポリマー導波路の特徴
　３．ポリマー導波路の研究動向
　　3.1　ポリマー導波路材料
　　3.2　ポリマー光導波路の作製方法
　４．ポリマー光導波路の応用
　　4.1　ポリマー光導波路の応用
　　4.2　光インタコネクション
　　４．３　ポリマー導波路適用の条件
　５．まとめ
　 

第６講　液晶表示装置を支える高分子材料
　　　　　岡田 豊和　住友化学工業(株)

　１．はじめに
　２．液晶ディスプレイの構造
　　2.1　反射型を透過型
　　2.2　ＬＣＤ用光学フィルムの要素技術
　３．ＬＣＤに要求される特性と光学フィルム
　４．高透過偏光フィルムについて
　　4.1　ヨウ素系偏光フィルムの構造
　　4.2　偏光フィルムの偏光性向上
　　4.3　偏光フィルムの透過率
　５．視認性向上のための光学フィルム
　　5.1　輝度向上フィルム
　　5.2　表面反射防止フィルム
　６．ＬＣＤの視野角改良のための光学フィルム
　　6.1　位相差フィルムに要求される特性と因子
　　6.2　位相差フィルムの種類・機能・適用機種
　　6.3　ＬＣＤの位相差フィルムによる視野角改良
　　6.4　ＩＰＳ方式とＶＡ方式
　　6.5　光制御板（ルミスティー）
　　　6.5.1　ルミスティーによる視角拡大原理
　　　6.5.2　ルミスティーによるＴＦＴ中間表示の改良
　７．ＬＣＤの適用範囲拡大のための光学フィルム
　　7.1　高耐久染料系偏光フィルム
　　7.2　温度補償型位相差フィルム
　　7.3　高精細高輝度反射型ＬＣＤ用材料
　　　7.3.1　反射型ＬＣＤ用高機能材料
　　　7.3.2　カラー反射型ＬＣＤの構成
　　　7.3.3　反射型ＬＣＤ用１／４λ板と前方散乱部材
　　　7.3.4　反射防止機構
　８．光学フィルムを支える材料への要求特性
　９．今後の光学フィルムの主課題