第１講 光ファイバと光通信システム
　長谷川 宏　　社団法人電線総合技術センター 主管研究員

　１．はじめに
　２．光通信の歴史
　　2.1　通信の基本構成
　　2.2　光の通信への応用
　　　2.2.1　光通信の基本　　　　2.2.2　光通信の課題と新たなニーズ
　　2.3　光ファイバ開発の歴史
　　2.4　光ファイバにおける光伝送損失の表し方
　３．光ファイバの実際
　　3.1　光の伝搬理論と光ファイバにおける光の伝搬原理
　　　3.1.1　フェルマの定理　　　3.1.2　スネルの法則　　　3.1.3　臨界角と全反射
　　3.2　ＳＩ型光ファイバにおける光の伝搬
　　　3.2.1　屈折率分布　　　　　3.2.2　マルチモード
　　3.3　さまざまな光ファイバ
　　　3.3.1　用途　　　　　　　　3.3.2　構造と性質
　　3.4　光ファイバの製造方法
　　3.5　光ケーブルの製造工程（ＶＡＤ）
　　3.6　光ケーブルの断面構造
　４．光通信システム
　　4.1　光通信システムの分類
　　4.2　光海底ケーブル
　　4.3　エルビウムドープファイバを用いた光増幅器
　　4.4　光信号直接増幅
　　4.5　ＡＴＭ（Asynchronous Transfer Mode）
　　4.6　ＡＴＭの特長
　　4.7　河川光ネットワーク
　　4.8　光情報ＨＵＢ
　　4.9　光アクセスネットワークの形態
　　4.10　ＰＤＳを用いた光伝送システムの概念
　５．光ファイバの応用システム
　　5.1　光ファイバのセンサへの応用
　　　5.1.1　伝送路として使うもの
　　　5.1.2　光ファイバ自身をセンサとして使うもの
　　5.2　光ファイバ浸水検知センサ
　　5.3　光ファイバ浸水検知システム
　　5.4　光ファイバ温度センサ
　　5.5　光ファイバセンサの今後の課題
　６．今後の動向
　　6.1　オール　ウェーブ　ファイバ（All Wave Fiber）
　　6.2　超高速光伝送システムの発展
　　6.3　各地で行なわれているマルチメディア実験
　　6.4　光ケーブルのＬＣＡ
　　　6.4.1　光ケーブルのＬＣＡ計算結果（ケーブル間ＣＯ２発生量比較）
　　　6.4.2　光ケーブルのＬＣＡ計算結果（製造工程間ＣＯ２発生量比較）
　７．今後の光ケーブルに求められる特性


第２講 ＷＤＭ時代の光ファイバ
　高橋 宏　　東京大学大学院 工学系研究科化学システム工学専攻 教授

　１．はじめに
　２．光通信技術の特徴
　３．光ファイバの開発史
　　3.1　理論的損失限界の達成
　　3.2　超低損失光ファイバへの挑戦
　　3.3　伝送容量の増大と量産技術による低コスト化
　４．光ファイバの種類と伝送容量
　５．伝送容量のさらなる増大に向けて：波長分散の改善
　６．光ファイバの構造分散：分散シフト光ファイバ
　７．光通信技術の新たな流れ
　８．ＷＤＭ技術における信号強度の平準化：光増幅器
　９．分散の平準化：分散補償光ファイバ、分散フラット光ファイバ
　10．ＷＤＭ用光ファイバ
　11．ＷＤＭ技術はどのようにして実用技術となったのか
　12．おわりに


第３講 石英系イメージファイバを主とした光ファイバの耐放射線性研究
　速水 弘之　　 三菱電線工業株式会社 情報通信事業本部 光・電子技術部 専門部長 

　１．はじめに
　２．ファイバスコープ
　　2.1　ファイバスコープの原理　　　2.2　イメージファイバの特徴・製造方法
　　2.3　ファイバスコープの利用例
　３．学会での発表
　　3.1　日本原子力学会−１９８５年
　　3.2　ＳＰＩＥ（ボストン）−１９８８年
　　3.3　発表の詳細
　　3.4　日本原子力学会−１９８９年秋の大会
　　3.5　ＥＮＣ（フランス・リヨン）−１９９０年
　　3.6　第３回ニューガラス国際シンポジウム−１９９１年１０月
　　　3.6.1　参加のきっかけとシンポジウムの概要
　　　3.6.2　学会での質問・専門家の見解
　　　　　　１）光ファイバメーカー、大学、国立研究機関の関係者
　　　　　　２）ガラス会社などの専門家
　　　　　　３）まとめ
　　3.7　日本原子力学会−１９９１年秋の大会
　　　3.7.1　供試材料とγ線照射実験　　　3.7.2　照射劣化による色の変化
　　3.8　日本原子力学会誌
　　3.9　(社)応用物理学会学術講演会
　　　3.9.1　ＥＳＲ測定との対比　　　3.9.2　レーザーラマン測定
　　　3.9.3　石英の結合
　　3.10　日本原子力学会−１９９４年秋の大会
　４．結論
　５．質問
　６．１９９４年秋の大会　結果報告


第４講 産業技術基盤研究開発プロジェクト「フォトン計測・加工技術」と

　　　レーザープロセッシングにおける光ファイバ技術
　山田 明孝　　財団法人製造科学技術センターフォトンセンター 主席研究員

　１．はじめに
　２．国家プロジェクトによるレーザー開発
　３．フォトン計測・加工技術プロジェクト
　　3.1　目的　　　　3.2　開発内容
　４．この技術で何ができるようになるか
　　4.1　ＬＤ高出力固体レーザー　　　4.2　高集光固体レーザー
　　4.3　計測用レーザー
　５．研究開発の組織
　６．スケジュール
　７．個別の技術解説
　　7.1　高出力完全固体化レーザー技術　　7.2　高集光完全固体化レーザー技術
　　7.3　マクロ加工技術　　　　　　　　　7.4　ミクロ加工技術
　　7.5　ｉｎ-ｓｉｔｕ状態計測技術　　　 7.6　非破壊組成計測技術
　８．最新の成果
　　8.1　高出力完全固体化レーザー技術（(株)ファナック）
　　　8.1.1　目的と目標　　　8.1.2　開発の経緯と各種技術
　　8.2　高出力完全固体化レーザー技術（(株)東芝）
　　　8.2.1　目的と目標、開発の経緯　　　8.2.2　効率分析
　　　8.2.3　移行効率、光源効率の向上　　8.2.4　多段共振器による高出力化
　　8.3　高集光完全固体化レーザー技術
　　　　　　（三菱電機(株)、大阪大学、(株)光学技研）
　　　8.3.1　レーザー装置の概要　　　8.3.2　紫外線発生技術
　　8.4　構造体型ファイバレーザー
　　　8.4.1　目的と目標、世界との比較
　　　8.4.2　従来のファイバレーザー
　　　　　　　　１）ダブルクラッド方式　　　２）平行横励起ファイバ
　　　8.4.3　構造体型ファイバレーザーの原型と発展
　　8.5　高集光完全固体型レーザー技術（浜松ホトニクス(株)）
　９．マクロ加工技術
　10．実用化の見通し
　11．光ファイバ伝送の産業応用
　　11.1　レーザー加工の概要　　　　　　　　11.2　レーザー加工の種類と適用分野
　　11.3　発振形態とレーザー加工系のしくみ　11.4　レーザー加工の実際
　　11.5　実用化例
　12．光ファイバによるパワー伝送と応用
　　12.1　パワー伝送のしくみ　　12.2　技術課題と開発項目　　12.3　試験装置