TOP セミナー 書籍 社内研修 セミナーQ&A 書籍Q&A お問い合せ 会社概要

<セミナー詳細>

セミナーコード:20100808   このセミナーの受付は終了しています

★本セミナーでは、オゾン・過酸化水素・紫外線・光触媒などを用いたOHラジカルの生成法・化学的特性と、
 水処理(産業排水、浄水、下水)・排ガス処理・脱臭などの環境浄化への応用技術と最近の動向について、
 経験豊富な中山博士に詳しく解説頂きます。

OHラジカル(ラジカル反応・活性種)の
生成法と環境浄化への応用及び技術動向
●講 師 (元)三菱電機(株) 本社 社会システム事業部
主管技師長
NPO法人 日本オゾン協会 顧問
理学博士
中山繁樹 氏
●日 時 2010年 8月 27日(金) 10:00〜16:30
●会 場 東京・新お茶の水・総評会館・4F会議室  》》 会場地図はこちら 《《
※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで!!
●受講料 49,980円(1名につき)
(同時複数人数お申込みの場合1名につき44,730円)
※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主 催 (株)技術情報センター

●セミナープログラム●
T.OHラジカルの生成法と化学的特性

 1.OHラジカルについて
  1.1 なぜ、OHラジカルか
  1.2 OHラジカルの酸化力について
  1.3 ラジカルとは
   (1)電子のスピン
   (2)原子、分子の電子の状態
   (3)パウリの排他律
   (4)フントの原理
   (5)軌道への電子配置
  1.4 比較的容易に生成されるラジカルと電子構造
  1.5 OHラジカル反応の類型
 2.OHラジカルおよび酸素原子の生成方法
  2.1 気相オゾンの熱分解による酸素原子生成
  2.2 気相オゾンの紫外光分解による酸素原子生成
  2.3 オゾン/水の紫外光分解によるOHラジカルの生成
  2.4 過酸化水素の分解によるOHラジカル生成
  2.5 水中オゾンの自己分解によるOHラジカル生成
  2.6 過酸化水素とオゾンの反応によるOHラジカル生成
  2.7 触媒/オゾンによるOHラジカル生成
  2.8 Fenton反応
  2.9 光触媒
  2.10 水の真空紫外光分解
  2.11 放射線照射
  2.12 放電
  2.13 オゾンと有機化合物の反応
 3.OHラジカルの測定方法 〜プローブを用いる方法〜
  3.1 直接測定
  3.2 ラジカル捕捉剤
 4.OHラジカルの効果
  4.1 オゾン/過酸化水素処理
  4.2 オゾン/紫外線照射処理
 5.反応モデルとシミュレーション
  5.1 気相オゾンの熱分解速度と酸素原子濃度
   (1)熱分解反応モデル
   (2)計算方法
   (3)計算結果
  5.2 気相オゾンの熱分解を利用したホルムアルデヒドの酸化シミュレーション
   (1)反応モデル
   (2)低圧水銀ランプが放射する光量とオゾンの光分解速度について
   (3)計算結果
  5.3 気相オゾンの光分解を利用したホルムアルデヒドの酸化シミュレーション
   (1)反応モデル
   (2)低圧水銀ランプが放射する光量とオゾンの光分解速度について
   (3)計算結果
  5.4 水中オゾンの自己分解によるOHラジカル生成
   (1)純水中オゾンの自己分解速度実験式
   (2)自己分解反応モデル
   (3)反応モデルによるシミュレーション
    1) 自己分解速度のpH依存性
    2) 自己分解中間生成物
    3) 重炭酸/炭酸イオンの影響
  5.5 水相オゾンへの過酸化水素添加
   (1)過酸化水素添加の効果
   (2)初期オゾン濃度の効果
   (3)pH効果
   (4)OHラジカルと被酸化物の反応
    1) プロファイル
    2) オゾン利用効率のpH依存性
    3) 過酸化水素濃度
    4) 無機炭素
    5) エタノール
    6) エタノールの酸化機構
  5.6 オゾン/紫外線
   (1)紫外線照射および強度の効果
   (2)pH効果


U.OHラジカルの環境浄化への応用と最近の技術動向

 1.浄水の高度処理
  1.1 農薬の分解
  1.2 臭気物質の除去
   (1)オゾン/過酸化水素による臭気除去
   (2)有機物とオゾンの反応により生成したOHラジカルによる臭気除去の検証
 2.下水処理水の高度処理
  2.1 オゾン/過酸化水素による二次処理水の高度処理
  2.2 オゾン/紫外線による二次処理水の高度処理
  2.3 環境ホルモンの除去
  2.4 微生物の殺菌、不活化
   (1)芽胞
   (2)大腸菌ファージ
   (3)E-coli
  2.5 最近の技術動向
 3.産業排水等
  3.1 電着塗装排水のCOD除去
  3.2 ダイオキシン分解
   (1)埋立地浸出水のUV/O3およびUV/O3/H2O2処理
   (2)焼却炉洗浄水処理
  3.3 難酸化性微量有害化学物質の分解
  3.4 医薬品の処理
  3.5 最近の技術動向
 4.オゾン/触媒による環境浄化
  4.1 酸化チタン
  4.2 V-O
  4.3 均一触媒および不均一触媒
  4.4 遷移金属イオン
  4.5 最近の技術動向
 5.その他の応用動向
  〜排ガス処理、室内空気浄化、脱臭・殺菌

V.OHラジカルの環境浄化への応用の意義と課題



W.質疑応答
−名刺交換会−
セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。