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＜セミナー詳細＞

セミナーコード：20101213　　　このセミナーの受付は終了しています


★クリーン環境（クリーンルーム、クリーンエリア等）における粒子汚染対策・クリーン化技術の実際！！
★本セミナーでは、粒子発生メカニズム及び発生源、粒子付着力、除塵技術等「粒子発生を元から絶つ／付着させない」
　技術・ノウハウとパーティクルの可視化・除去・管理など粒子汚染防止技術について、実務の第一線でご活躍中の稲葉、
　松井両講師に泥臭い内容・事例をまじえ、わかりやすく解説頂きます。

～コストをかけず、今すぐ役に立つクリーン環境の造り方、改善策～
粒子汚染防止対策の実際
●講　師 高砂熱学工業(株)
総合研究所　参与
工学博士		 稲葉　仁 氏
●講　師 東京エレクトロン(株)
技術開発センター
コンサルティンググループ　主任技師		 松井英章 氏

　　　↓
東京エレクトロン(株)
技術開発センター
コンサルティンググループリーダー
工学博士		 守屋　剛 氏
※恐縮に存じますが、都合により、講師を変更させて頂くことになりました。
（講演内容の変更はございません）
●日　時 ２０１０年　１２月　１０日（金）　１０：３０～１６：３０
●会　場 東京・新お茶の水・総評会館・４Ｆ会議室　　》》 会場地図はこちら 《《
※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで！！
●受講料 ４９,９８０円（１名につき）
（同時複数人数お申込みの場合１名につき４４,７３０円）
※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主　催 (株)技術情報センター

●セミナープログラム●
10:30
|
13:00 		Ⅰ．「粒子発生を元から絶つ／付着させない」技術とノウハウ

【講演要旨】

　電子デバイス、高機能フィルム、プラスティック製品製造工程、各種塗装・コーティング工程、
食品梱包工程において、粒子汚染は製品の品質および信頼性低下の大きな要因となっている。
粒子汚染は、①発生源を極力絶つ、②発生した場合は速やかに排除する、③付着力を低減する、
の徹底により大幅に改善することができる。本講では、本対策を確実に実施していくために必要な
知識・技術を、粒子発生メカニズムおよび発生源、粒子付着力、除塵技術に分類して解説する。

　１．製造環境における粒子発生源
　　1-1．屋外由来粒子
　　　・イオン性粒子物質の種類と発生源、季節変動
　　1-2．室内発生粒子
　　　・作業者、各摺動機器からの発塵
　　1-3．ガス成分由来粒子
　　　・有機性ガス由来のイオナイザ放電による粒子発生
　　　・酸および塩基性ガスの反応による塩生成
　２．粒子付着作用力と粒径依存性
　　2-1．５つの粒子付着作用力と粒径依存性
　　2-2．微粒子付着最大の作用力、静電気力の影響
　３．粒子汚染防止技術
　　3-1．粒子汚染防止「４原則＋α」
　　3-2．４原則
　　　・塵埃を持ち込まない技術／外調機での除塵、海塩粒子対策
　　　・塵埃を発生させない技術／作業者防塵対策、潤滑油最適化
　　　・塵埃を蓄積させない技術／気流制御、帯電防止
　　　・塵埃を排除する技術／気流制御、局所フィルトレーション
　　3-3．対策効果の非常に大きい「α」技術
　　　・「α」対策による粒子汚染改善効果評価例
　　　・「α」対策技術詳細とノウハウ
　４．トピックス
　　　・気流、粒子可視化技術の紹介
　　　・簡易型および緊急時の除塵技術の紹介
　　　・高性能な除電装置の紹介
　５．質疑応答
（稲葉 氏）
14:00
|
16:30 		Ⅱ．半導体製造における粒子汚染防止技術

【講演要旨】

　半導体製造において、加工寸法の微細化により、10nmオーダーのパーティクル制御の
必要性まで出てきている。しかし、微小なパーティクルは確認が困難であり、そのメカニズム
などを理解することは難しい。しかし、メカニズムを理解しないで対策を実行しても、短期的には
効果があっても、長期的効果が見込めなかったり、少し条件が変るだけで適応できなったり
する場合が多い。本講演では、半導体製造におけるパーティクルの可視化、数値化について
述べ、パーティクルのメカニズムを踏まえた対策技術を提案する。

　１．パーティクルとは
　２．半導体製造装置におけるパーティクル発生モード
　　2-1．どのような場所でパーティクルが発生しているか
　　2-2．大気搬送モジュールにおけるパーティクル対策
　　2-3．真空搬送モジュールにおけるパーティクル汚染
　　2-4．プラズマプロセスに起因するパーティクル発生
　３．剥離パーティクルの発生メカニズムと対策
　　3-1．どのような要因で剥離パーティクルが発生するか
　　3-2．ガスによるパーティクル飛散
　　3-3．静電気によるパーティクル飛散
　　3-4．チャンバ内のパーティクル除去手法
　４．パーティクルを観測し管理するには
　　4-1．ウェーハを用いたパーティクル管理とISPMによるパーティクル管理
　　4-2．ISPMはどのような圧力で使用可能か
　　4-3．ターボポンプの下流へのISPM設置の可否
　５．質疑応答
（守屋 氏）
－名刺交換会－
セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。