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<セミナー詳細>

セミナーコード:20131214   このセミナーの受付は終了しています


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★他の加熱源に比べ多くの利点を備えている高周波・マイクロ波加熱を工業利用する動きが活発になっています。
★本セミナーでは、高周波・マイクロ波加熱の原理・特徴など総合的な基礎知識から、装置構成及び具体的な
 設計例と最新動向を含めた各種応用事例、又、法的規制などに至るまで、斯界の第一線でご活躍中の吉田講師
 に詳説頂きます。

高周波・マイクロ波加熱・乾燥の基礎から、
装置設計と最新動向及び応用実例
●講 師 富士電波工機(株)
取締役 第一機器部長
吉田 睦 氏
●日 時 2013年 12月 20日(金) 10:15〜16:15
●会 場 東京・新お茶の水・連合会館(旧 総評会館)・4F会議室  》》 会場地図はこちら 《《
※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで!!
●受講料 49,980円(1名につき)
(同時複数人数お申込みの場合1名につき44,730円)
※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主 催 (株)技術情報センター

●セミナープログラム●
T.高周波・マイクロ波加熱の基礎

 (1)高周波・マイクロ波とは?
 (2)ISM周波数
 (3)誘導加熱の原理
 (4)家庭用電子レンジと工業向け加熱装置の違い
 (5)加熱出来る物と出来ない物
 (6)εγとtanδ
 (7)周波数の違いによる差
 (8)高周波・マイクロ波加熱の特徴
 (9)高周波・マイクロ波加熱のメリットとデメリット
 (10)利用分野


U.装置構成と設計例

 (1)高周波誘電加熱
 (2)マイクロ波加熱
 (3)バッチ処理と連続処理
 (4)減圧と加圧
 (5)シミュレーション(電磁波を目で見る)
 (6)計測技術
  @温度(赤外線温度計・サーモビュアー・光ファイバー温度計)
  A電圧(高周波電圧計)
  Bノイズ対策(EMCとEMI)
  C電波法対策(電磁波の測定)


V.マイクロ波に関する法的規制

 (1)電波標準防護規格
 (2)諸外国の電波法に関する事情
 (3)電磁波の安全性・公共性に関する問題


W.高周波及びマイクロ波の最新動向と応用事例

 (1)電磁波加熱の三大要素
 (2)マイクロ波の磁場と電場分離とその活用
 (3)バッチ処理の事例
 (4)連続処理
 (5)減圧処理
 (6)スラリー乾燥
 (7)セラミックス乾燥
 (8)金属加熱
 (9)薄膜やナノ粒子の加熱・焼結
 (10)今後期待されている技術とその応用プロセス
  @半導体式マイクロ波電源、プロセスの精密制御
  A化学プロセスへの応用
  Bプリンタブルエレクトロニクスへの応用
   (紙・樹脂フィルム・ガラス基板への乾燥・反応・焼結)

  Cその他

X.質疑応答<適宜>
−名刺交換会−
セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。