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<セミナー詳細>

セミナーコード:20161007   このセミナーの受付は終了しています


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★本セミナーでは、オゾンとOHラジカルの特性から設備設計の留意点、具体的な各種水処理(浄水・下水・排水・
 地下水・汚泥処理)への応用技術について、AOPならびに水中放電利用・オゾン水利用膜分離バイオリアクタなど
 新しい技術を含め、実務の第一線でご活躍中の高橋氏、安永氏、両講師に詳しく解説頂きます。

オゾン・OHラジカルによる水処理技術と応用展開の実際
●講 師 メタウォーター(株)
プラントエンジニアリング事業本部
水道技術部 担当部長
技術士(上下水道部門)
高橋龍太郎 氏
  <講師紹介>
1989年 富士電機株式会社入社 公共事業本部 水処理技術部配属。
上下水、民需および海外のオゾンプラントのエンジニアリングに従事。
2002年〜2006年、浄水膜ろ過装置の開発、エンジニアリングに従事。
2008年 メタウォーター株式会社。
2011年〜2014年 R&Dセンター配属。
各種水処理プロセス、オゾン発生装置の開発に従事。
2015年〜 水道技術部配属。
オゾンを主とした水処理設備のエンジニアリングに従事。
●講 師 三菱電機(株) 先端技術総合研究所
環境システム技術部
水質制御グループ グループマネージャー
工学博士
安永 望 氏
  <講師紹介>
2007年-2016年 高濃度オゾン水処理技術の開発に従事。
「オゾン・OHラジカル関係」業務の経験年数:20年
●日 時 2016年 10月 21日(金) 10:00〜16:30
●会 場 東京・新お茶の水・連合会館(旧 総評会館)・4F会議室  》》 会場地図はこちら 《《
※急ぎのご連絡は(株)技術情報センター(TEL06-6358-0141)まで!!
●受講料 49,680円(1名につき)
(同時複数人数お申込みの場合1名につき44,280円)
※テキスト代、昼食代、お茶代、消費税を含む
●主 催 (株)技術情報センター

●セミナープログラム●
10:00
|
12:30
T.オゾン水処理技術の基礎と応用

【習得知識】
オゾンの基礎知識(反応特性、利用法)
オゾン関連機器の原理、組合せ技術
オゾン(OHラジカル含む)水処理技術の基礎と応用

【講師の言葉】
 オゾンは、上下水道をはじめ、排水処理やプール、食品、医療、半導体関連など様々な分野で利用されています。今回の講演では、オゾンの特性や取扱いの基本について初心者でも理解できるよう解説すると同時に、設備の原理、設計の考え方など実務に役立つ内容を盛り込みます。また、応用編では、AOPなど新たに実用に向けて開発が進められている技術について解説します。

【プログラム】
 1.基礎編
  (1)オゾンの基礎
   @オゾンの性質
   Aオゾンの利用用途(概論)
   Bオゾンの安全な取扱いについて
 2.設備編
  (1)オゾン発生方法(無声放電)
   @無声放電によるオゾン発生
   Aオゾン発生装置の進歩
  (2)オゾン処理設備
   @オゾン発生装置の機器構成
   Aオゾン反応槽の種類と設計方法
   B排オゾン処理装置の方式と特徴
 3.基本プロセス編
  (1)オゾンの上下水分野への適用
   @上水プロセス編
   A下水プロセス編
  (2)オゾンによる水処理
   @排水処理への適用とその設計手法
   AAOPを利用した水処理(実用例)
 4.質疑応答・名刺交換
(高橋 氏)
13:30
|
16:30
U.オゾン・OHラジカルによる水処理技術とその応用展開

【習得知識】
オゾン・OHラジカルを用いた水処理技術の基礎と適用例

【講師の言葉】
 オゾンは酸化力が強い反面、分解して酸素に戻るため残留性がなく、環境への負荷は非常に小さいです。さらにオゾンの分解によって生じるOHラジカルは、オゾンよりも酸化力が強く、難分解性物質の分解も期待できます。オゾンの反応には選択性がありますが、OHラジカルの反応には選択性がないため、これを利用した水処理技術の反応制御は難しくなります。
 今回の講演において、OHラジカルの特徴を丁寧に解説し、オゾンやOHラジカルを用いた水処理技術の留意点や実例を紹介します。さらに、オゾンやOHラジカルを用いた新しい水処理方法として、膜分離や放電を利用した水処理技術についても解説します。


【プログラム】
 1.OHラジカルの特性
  (1)OHラジカルの特性
   @OHラジカルとは
   AOHラジカルの発生方法
   BOHラジカル濃度の測定方法
   Cオゾンと促進酸化処理の組合せ
 2.オゾン・OHラジカルを用いた水処理技術
  (1)オゾン処理
   @浄水処理
   A下水処理
   B汚泥処理
   Cオゾンとマイクロバブルの組合せ
  (2)オゾンを用いた促進酸化処理
   @浄水処理
   A地下水処理
   B下水処理
 3.オゾン・OHラジカルを用いた水処理技術の水再生への展開
  (1)事業所の水リサイクル
   @家電事業所における水再生検討
   A半導体事業所における水再生検討
  (2)水中放電を利用した水処理
   @水中放電によるラジカル発生
   A水中放電による殺菌特性
   B気液界面放電による水処理技術
  (3)オゾンを用いた膜分離バイオリアクタ(Eco-MBR)
   @省エネ型の膜分離バイオリアクタの特長
   Aオゾンによる膜洗浄効果
 4.質疑応答・名刺交換
(安永 氏)
−名刺交換会−
セミナー終了後、ご希望の方はお残り頂き、講師と参加者間での名刺交換会を実施させて頂きます。